英特尔宣布正在接收来自ASML的第二台高数值孔径（High NA）EUV光刻机，价值高达3.83亿美元。

帕特·基辛格英特尔在8月1日财报电话会议透露了这一消息，并表示第二台High NA EUV光刻机即将进入英特尔位于俄勒冈州的工厂，并补充说这些技术投资已经显示出良好的早期迹象。尽管英特尔近期因扭亏为盈前景不明朗而面临股价压力，但这一战略性的技术投资并未被市场广泛注意。

ASML作为计算机芯片制造商的最大设备供应商，对于具体客户的采购情况保持低调，拒绝对外发表评论。然而，ASML高管此前已确认，该公司已开始向一位未透露姓名的客户出货第二台高NA EUV光刻机，并预计今年将实现第一台及可能还有第二台设备的销售收入。

高NA EUV光刻机是半导体行业下一代的关键技术之一，对于提升芯片制造精度和效率具有重要意义。ASML成功推出这一技术被认为是其未来成为欧洲最大科技公司的关键。目前，包括台积电、三星电子、英特尔以及SK海力士和美光在内的多家领先芯片制造商已经向ASML订购了十多台High NA EUV光刻机。

英特尔计划到2027年前将High NA EUV技术用于商业生产，以进一步巩固其在芯片制造领域的竞争力。而为英伟达和苹果等科技巨头代工生产芯片的台积电也将在今年收到一套High NA EUV设备，尽管具体用于生产的时间尚未透露。

ASML CEO Christophe Fouquet表示，DRAM内存芯片制造商如三星、SK海力士或美光可能会在2025年或2026年开始使用高NA EUV光刻机。